解析氦气在光刻工艺的核心应用，覆盖EUV/DUV设备温控、成像精度优化、工艺环境保护等场景，说明先进制程下高纯氦气的高需求、供应要求及循环回收趋势，助力半导体产业链稳定。...
EUV光刻技术要求氦气纯度达6N级以上，影响光刻精度、设备维护成本及良率，行业正推进回收利用和更高纯度技术以应对3nm以下制程需求。...
