氦气中氧气杂质会干扰等离子体稳定性，影响蚀刻速率与剖面，加速设备损耗，需通过两级纯化等技术控制，且先进制程对纯度要求更高。...
氦气在半导体蚀刻中不可或缺，能稳定等离子体、辅助散热、保护侧壁并助终点检测，保障芯片性能与良率，是关键材料。...
