EUV光刻技术要求氦气纯度达6N级以上，影响光刻精度、设备维护成本及良率，行业正推进回收利用和更高纯度技术以应对3nm以下制程需求。...
液氦纯度对超导、量子计算等至关重要，高端领域需6N甚至7N级纯度，通过多级分离工艺实现，其循环利用和检测技术也在不断发展。...
